陈远喆虽然不算内行。

但是，作为身为声名远扬的投资界大佬，对于光刻机还是知道一二的。

就因为知道，所以此刻才显得如此震惊。

双重曝光光刻技术是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。

两次曝光是在同样的光刻胶上进行的，但使用不同的掩模版。

相比于紫外光刻技术，整整领先了一代。

而目前，全球知名半导体企业，所用的，还只是紫外光刻。

这玩意，明明还在试验阶段，陆一鸣是怎么搞到手的？

陈远喆心里很明白，就算是自己，不，就算是自己背后的高盛，也没有这样通天的手段。

将双重曝光光刻机给搞到手？

怎么听起来这么邪乎呢？

看来，自己需要重新定义一下陆一鸣的能量了。

“陆。。。陆总，您确定，您没有开玩笑？真的是双重曝光光刻机？”

此时的樊东，说话都有些不利索。

这。。。

国内就不提了，国外大厂使用的，也不过是1980年左右面世的紫外光刻。

樊东在麻省理工的时候，在导师的带领下，参与过双重曝光光刻的研究与运用。